菲希爾X射線熒光分析基礎和重要儀器性能

過去，X射線熒光分析(XRF)主要用于地質學。如今，它已成為工業(yè)和實驗室的關鍵技術。這種方法非常通用:它可以檢測從鈉到鈾的所有相關化學元素。

XRF通常用于材料分析，即確定樣品中給定物質的含量，如根據RoHS指令測量珠寶中的金含量或檢測日常物品中的有害物質。此外，XRF還可用于測量涂層厚度:快速、環(huán)保、無損。

菲希爾X射線熒光分析基礎和重要儀器性能

測量就是這樣進行的。

當X射線設備開始測量時，X射線管發(fā)出高能輻射，也稱為“初級"輻射。當這些X射線擊中樣品中的原子時，它們會增加能量——也就是說，它們會“激發(fā)"原子——并使原子在其原子核附近發(fā)射電子，這一過程稱為“電離"。因為這種狀態(tài)是不穩(wěn)定的，所以來自較高電子層的電子移動來填充間隙，從而發(fā)出“熒光"輻射。

這種次級輻射的能級類似于指紋:它是每一種元素的特征。檢測器接收熒光并將信號數字化。信號處理后，設備產生光譜:檢測到的光子能級繪制在X軸上，其頻率(計數率)繪制在Y軸上。樣品中的元素可以根據光譜中的峰值位置(X軸方向)來識別。這些峰的水平(Y軸方向)提供了關于元素濃度的信息。